【会员动态】致道资本 : ​宇微光学成功研发国内首款计算光刻EDA软件

宇微光学成功研发全国产、自主可控的计算光刻OPC软件，成功填补国内空白，加速推动了对芯片制造领域“卡脖子”问题的攻关与突破。协会会员单位致道资本作为宇微光学天使轮融资的投资方，持续看好公司发展前景，鼎力支持宇微光学在未来实现更多自主研发目标。

“OPC是EDA（电子设计自动化）工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。从基础研究到产业化应用，我们团队整整走了十年。十年磨一剑，就是要解决芯片从设计到制造的卡脖子问题。”

在光谷，华中科技大学教授刘世元创立的宇微光学软件有限公司（以下简称“宇微光学”），已成功研发全国产、自主可控的计算光刻OPC软件，填补国内空白。目前正在做集成与测试，并到芯片生产厂商做验证。

刘世元介绍，光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为OPC（光学临近校正）的算法软件进行优化。没有OPC，所有IC制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力。

目前，全球OPC工具软件市场完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美国公司占领。

刘世元是华中科技大学集成电路测量装备研究中心主任，同时也是光谷实验室集成电路测量检测技术创新中心主任。他早年师从华中理工大学前校长、著名机械学家杨叔子院士，于1998年获工学博士学位。

2002年，从英国访学归国后不久，刘世元在学院派遣下，作为最早的几个技术骨干之一，加盟上海微电子装备有限公司(SMEE)，承担国家863重大专项——“100nm光刻机”研制任务，为总体组成员、控制学科负责人。通过3年多的奋斗，他组建了SMEE第一个控制工程实验室，解决了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步控制的技术难题。

2020年10月，刘世元成立宇微光学公司。目前，团队除了2名行政人员外，全部为研发人员，他们来自中国、美国、俄罗斯等不同国家，在相关领域均为顶尖技术专家，30%以上成员拥有博士学位，具有丰富的行业经验。

下一步，宇微光学将加快产品推广步伐，加快进入国内外芯片制造厂商市场，力争成为全球芯片产业链中重要的一环。